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日本進口kakuhunter寫真化學SK-400TR 消泡攪拌機
核心技術特性?
?公自轉(zhuǎn)獨立控制?
行星式攪拌結(jié)構(gòu),公轉(zhuǎn)與自轉(zhuǎn)速度可獨立調(diào)節(jié),實現(xiàn)高效混合與脫泡。
支持“旋轉(zhuǎn)切換機構(gòu)”,公轉(zhuǎn)方向可單獨調(diào)整,減少材料性質(zhì)變化影響。
?真空脫泡技術?
集成真空泵,可在減壓環(huán)境下快速排除氣泡,降低材料氧化風險
。
部分型號(如SK-300TVS-A)支持常壓與真空模式切換,適應不同工藝需求。
應用領域?
?電子制造?:半導體封裝膠、光學膠水的均質(zhì)脫泡。
?醫(yī)療制藥?:生物制劑、藥膏的混合與乳化。
?新材料研發(fā)?:納米材料、高分子溶液的分散處理。
?能源行業(yè)?:鋰電池漿料的高效攪拌。
寫真化學脫泡攪拌機通過其的 ?行星式攪拌結(jié)構(gòu)? 和 ?真空脫泡技術?,能夠高效處理多種材料,尤其適用于對混合均勻性、氣泡控制要求較高的場景。以下是其主要適用材料及對應的行業(yè)應用:
?一、適用材料類型?
?液態(tài)/半固態(tài)膠黏劑?
?光學膠(OCA)?:用于顯示屏貼合,需無氣泡殘留以保證透光性。
?半導體封裝膠?:如環(huán)氧樹脂、硅膠,需高真空環(huán)境避免固化后內(nèi)部空洞。
?UV固化膠?:混合后需快速脫泡以維持固化均勻性。
?高粘度漿料?
?鋰電池漿料?:正/負極材料(如石墨、磷酸鐵鋰)與粘結(jié)劑的混合,需強力剪切分散。
?導電銀漿/納米銀線漿料?:避免氣泡影響導電性能。
?高分子溶液與乳液?
?光刻膠?:半導體光刻工藝中需高純度、無氣泡的膠液。
?醫(yī)用凝膠/藥膏?:如透明質(zhì)酸制劑、乳膏類藥品的乳化均質(zhì)。
?納米材料分散體系?
?納米氧化物懸浮液?(如SiO?、TiO?):防止團聚,提升材料穩(wěn)定性。
?石墨烯/碳納米管分散液?:需高剪切力實現(xiàn)均勻分散。
?敏感材料?
?生物制劑?:疫苗、細胞培養(yǎng)基等對溫度敏感的材料(部分型號支持低溫攪拌)。
?光敏樹脂?:在真空環(huán)境下減少氧化和光降解風險。
?二、材料處理的核心優(yōu)勢?
?真空脫泡技術?
真空度可達 ?-0.098MPa?,快速去除微米級氣泡,適用于 ?低表面張力液體?(如硅油)和 ?高固含量漿料?。
?動態(tài)混合控制?
?低粘度液體?(<1000cP):低速公轉(zhuǎn)避免飛濺。
?高粘度漿料?(>10,000cP):高速自轉(zhuǎn)增強剪切力。
公轉(zhuǎn)與自轉(zhuǎn)速度獨立調(diào)節(jié)(如 ?公轉(zhuǎn)300-1400rpm,自轉(zhuǎn)0-2000rpm?),適配不同粘度材料:
?溫控兼容性?
部分型號(如SK-4000TV)支持加熱/冷卻夾套,可處理 ?熱固化膠水? 或 ?低溫敏感材料?。